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[判断题]
MOS结构半导体表面处于反型区时,表面电荷的改变主要依靠的是漂移与扩散运动。()
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第1题
A.半导体表面反型时,空间电荷区宽度达到最大值
B.空间电荷区宽度最大时,强反型区的电子或空穴会屏蔽表面电场
C.空间电荷区宽度达到最大值后,表面势的变化不会引起空间电荷区宽度的变化
D.对于n型,外加电压VG>0并逐渐增大时,空间电荷区宽度逐渐增大直至达到最大值
第4题
第5题
第9题
A.型腔表面加工质量、降低
B.型腔表面加工质量、提高
C.模具结构、降低
D.模具结构、提高
第10题
A.Ⅰ型超敏反应
B.Ⅱ型超敏反应
C.Ⅲ型超敏反应
D.Ⅳ型超敏反应
E.Ⅴ型超敏反应