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[单选题]
对于浓度覆盖很宽的杂质原子，可以采用（)方法引入到硅片中。
A.离子注入
B.溅射
C.淀积
D.扩散
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题目内容
（请给出正确答案）
A.离子注入
B.溅射
C.淀积
D.扩散
答案
更多“对于浓度覆盖很宽的杂质原子，可以采用()方法引入到硅片中。”相关的问题
第1题
A.工艺流程中乙二醇在装置中被全回用，无需再设置专用的乙二醇回收设施，降低了乙二醇的单耗
B.两段酯化，一段预缩聚和一段终缩聚的四釜工艺，可进行大规模生产，可以有效降低生产成本
C.物料在反应釜中停留时间短，属与放热聚合反应，操作不稳定，产品中杂质含量较高，质量一般
D.采用乙二醇蒸汽喷射方式产生真空，可降低装置能耗，减少蒸汽凝液中的含水量，并经分离可在装置中循环使用，减少了污水排放量
第8题
A.GPON方式适用于部著光纤区域，且视频站点大容量高密度覆盖
B.在繁华城区通常考虑交换机的网络接入方式
C.对于某些偏远地区有线网络无法覆盖到，可考虑采用微波，LTE等无线方式
D.微波的传输距离不远，通常小于1km，因此传输距离远的场景下不能采用微波方式
第10题
A.本征半导体中掺入施主杂质
B.半导体中同时掺入施主杂质和受主杂质，且施主浓度大于受主浓度
C.半导体中同时掺入施主杂质和受主杂质，且施主浓度小于受主浓度
D.半导体中同时掺入施主杂质和受主杂质，且施主浓度等于受主浓度
E.本征半导体中掺入受主杂质
